采购记录：磁控溅射设备(高真空双腔磁控溅射薄膜沉积系统)采购项目
zycgr24041501
采购单位zycgr24041501
具体要买磁控溅射设备(高真空双腔磁控溅射薄膜沉积系统)采购项目
采购类型物资
数量/工作量公告未明确具体数量
预算/包估算180万元
价格方式公告未单列单项价格
截止时间2026/10/13 09:30
交付地区江苏
采购方式公开招标
合同/交付期限合同签订后6个月内交货。
← 返回采购列表2.落实政府采购政策需满足的资格要求:必须满足 本项目不属于专门面向中小微企业、监狱企业、残疾人福利性单位采购的项目。会影响报价或交付 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定;会影响报价或交付 3.本项目的特定资格要求:1) 投标人须符合《中华人民共和国政府采购法》第二十二条的规定;(具体为供应商参加政府采购活动应当具备下列条件:(一)具有独立承担民事责任的能力;(二)具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度;(三)具有履行合同所必需的设备和专业技术能力;(四)有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录;(五)参加政府采购活动前三年内,在经营活动中没有重大违法记录;(六)法律、行政法规规定的其他条件。2) 在中华人民共和国境内依法注册的,具有独立承担民事责任能力,遵守国家法律法规,具有良好信誉,具有履行合同能力和良好的履行合同的记录,具有良好资金、财务状况的企事业法人、其他组织或者自然人;3) 代理商投标必须有制造厂家的授权(仅针对允许采购进口产品必须满足
买什么
磁控溅射设备(高真空双腔磁控溅射薄膜沉积系统)采购项目
采购项目的名称、数量:
包号
货物
名称
数量
用途
是否允许采购进口产品
采购
限价
(万元)
1
磁控溅射系统设备
1套
本设备用于大面积低维单晶材料制备过程中的样品前处理,采用磁控溅射技术,可实现对8英寸样品的批量化预处理。通过精确调控溅射参数(如功率、气压、沉积时间等),能够可控地沉积薄膜,满足不同前处理工艺需求。该设备将为单晶金属、单晶石墨等材料的批量化制备提供关键的前处理工艺支撑。
否
180
采购项目的名称、数量:
包号
货物
名称
数量
用途
是否允许采购进口产品
采购
限价
(万元)
1
磁控溅射系统设备
1套
本设备用于大面积低维单晶材料制备过程中的样品前处理,采用磁控溅射技术,可实现对8英寸样品的批量化预处理。通过精确调控溅射参数(如功率、气压、沉积时间等),能够可控地沉积薄膜,满足不同前处理工艺需求。该设备将为单晶金属、单晶石墨等材料的批量化制备提供关键的前处理工艺支撑。
否
180